真空氣氛爐首要是應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理，也可在充氣維護情況下熱壓成形燒結。其首要有六大組成部分組成：爐體、加熱室、水冷系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和氣氛控制系統(tǒng)。每個系統(tǒng)的作用不同，其間真空系統(tǒng)和氣氛控制系統(tǒng)是首要的組成系統(tǒng)。
真空氣氛爐的首要組成系統(tǒng)
一、真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)是確保爐內真空度的要害部分，其首要組成部分包括真空泵、真空計、氣密件等。真空泵可分為機械泵和分子泵兩種，機械泵適用于較低真空度下的抽氣，而分子泵則適用于較高真空度下的抽氣。真空計則用于測量爐內的真空度，常用的真空計有熱導真空計、離子真空計等。氣密件則用于確保爐內不會有氣體泄漏，常用的氣密件有O形圈、銅墊片等。
二、氣氛控制
氣氛控制是真空氣氛爐中另一個重要的部分，它首要通過氣氛系統(tǒng)來完結。氣氛控制的意圖是確保爐內氣體的成分和壓力契合工藝要求，以便對材料進行有效的處理。常用的氣氛有氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等，而氣氛的控制則首要通過氣體控制器、氣體流量計、氣體預處理系統(tǒng)等來完結。
氣體控制器是氣氛控制的要害設備之一，它能夠控制氣體的成分和壓力，以確保爐內氣氛的穩(wěn)定性。氣體流量計則用于測量氣體的流量，以便控制氣體的投入量。氣體預處理系統(tǒng)則用于去除氣體中的雜質和濕度，以確保爐內氣氛的純度和穩(wěn)定性。
在氣氛控制過程中，需求根據具體的工藝要求來挑選適宜的氣氛和氣體壓力。例如，在高溫下進行燒結處理時，一般需求選用惰性氣體（如氮氣、氬氣等）來防止材料的氧化；而在某些特別工藝中，需求運用復原性氣氛（如氫氣）來促進材料的復原反響。一起，氣氛控制也需求考慮爐內氣氛的流動性，以確保整個加熱過程中爐內氣氛的均勻性。
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