真空爐的基本原理 真空爐是一種高溫真空設備，主要由爐體、加熱元件、真空體系、氣體放控體系、記錄儀等部分組成。其基本作業(yè)原理是經過恒溫恒壓的真空環(huán)境下，置于爐膛中，經過加熱元件進行升溫加熱。在加熱過程中，經過真空保溫技能，將爐膛內的氣壓降至10^-3~10^-4Pa左右，使得石墨制品外表處于純凈氧化亞氮環(huán)境下，然后避免了氧化、碳化等反應的產生。
